欣源科技（北京）有限公司

CRESTEC电子束直写_diaBEAM电子束焊接能量密度_欣源科技（北京）有限公司
电子束光刻系统 EBL (E-Beam Lithography)
电子束直写系统 、 电子束曝光系统
CABL-9000C series
30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。

型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB。其中CABL-9000C系列最小线宽可达8nm，最小束斑直径2nm，套刻精度 20nm(mean 2σ)，拼接精度 20nm(mean 2σ)。
欣源科技SYNERCE独家代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-Beam Lithography等。
包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸
如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询。

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